圖一、荷商ASML以1000億收購漢微科 2016年6月16日漢微科（HMI：Hermes Microvision, Inc.）由董事長許金榮舉行重訊，表示已與荷商艾司摩爾（ASML）簽署股份轉換契約，將以現金收購漢微科全部流通在外股份，總交易金額為新台幣1000億元，以每股新台幣1,410元之股份轉換對價，收購價格溢價幅度約16.5%。此交易案預計在今年第4季完成後，漢微科也將下櫃。 荷蘭的艾司摩爾（ASML）於 1984年，從荷蘭飛利浦獨立而成立，是歐洲半導體設備製造大廠，也是全球最大晶片微影設備供應商，全球十大半導體廠皆為ASML 的客戶。其主要競爭對手是美國應用材料公司(Applied Materials)。漢微科（HMI：Hermes Microvision, Inc.）成立於 1998 年專營最先進的電子束檢測技術來協助提升半導體產業之良率，也是 華人企業唯一切入半導體前段高階設備的公司。目前已經成為世界各大晶圓代工廠與晶圓記憶體廠最大的電子束檢測設備供應商，主要客戶是台積電和英特爾。。漢微科董事長許金榮表示，雙方早在2年前接觸，ASML相當看好漢微科電子束檢測技術，漢微科技術可以互補ASML現有曝光技術，未來漢微科將成為ASML在台灣子公司，而台灣子公司350名員工將不裁員，漢微科定位在ASML在台灣製造。漢微科大股東漢民科技集團也大力支持該交易案。 由於，漢微科是「小而美」的公司，具有高股價、高獲利、高技術含金量等三大優勢，因而被ASML看中。同時， 對半導體製造商而言，10奈米以下及3D立體結構製程的製程技術，以及良率控制愈加困難，技術挑戰愈來愈大，唯有「強強合作」才有機會勝出。雙方結合後，將有利於全方位微影系統效能提升、曝光微影的控制更佳，共同合作開發能成為半導體製造商之最先進製程及生產良率的解決方案。還有，另一重要因素就是面對中國半導以"併購追趕"模式，對ASML而言及早出手買下漢微科，避免為敵手添生力軍，有利於拉開競爭距離。漢微科計畫在股東會決議後，將送件台灣投審會以及公平會，韓國、新加坡公平會審核，至於美國因雙方產品並不重疊，因此不需經過美國主管機關審核，而本交易案預計在今年第4季完成，屆時台灣股后漢微科也將下櫃，變身為ASML台灣子公司。 業界分析，ASML以千億元併購漢微科，牽動半導體三強台積電、三星和英特爾在7奈米以下製程競賽甚鉅。尤其三星率先在7奈米導入 極紫外光微影製程(EUV)機台，顯然要用更先進的製程設備，在晶片效能做大幅突破，並以領先台積電的7月奈米時程，讓打算大舉採用台積電7奈米製程的大客戶蘋果和高通重新調整下單策略。結語對於外資收購台灣「資優生」企業的議題，當於全球新經濟成型之際，企業間利益最大化之下而併購結盟將成為一種常態，無關於國家面臨產業競爭力快速流失之問題。反而，政府應該將資源放在改善基礎環境，協助國內企業積極創新布局物聯網，尋求新機會。(962字；圖1) 極紫外光微影製程 （EUV）技術 極紫外光微影製程 （EUV）技術是次世代微影技術之一，被半導體業視為跨入10奈米製程以下，取代傳統浸潤式曝光（Immersion）、延續摩爾定律的一項重要微影技術。浸潤式曝光機台是在光源與晶圓中間加入水的原理，使波長縮短到132奈米的微影技術；EUV曝光設備是利用波長極短的紫外線，在矽基板上刻出更微細的電路圖案。EUV售價昂貴，一台售價高達7,000萬歐元（約新台幣25.6億元），主力設備開發廠艾司摩爾（ASML）為降低開發風險，過去曾要求英特爾、三星及台積電以入股，共同參與這項先進微影技術開發，如今相關量產設備已陸續出貨，和浸潤式曝光機搭配使用，開始導入在10奈米以下先進製程。
參考資料： --------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------
|
漢 微 科
版權 © 2024 nguoilontuoi Inc.
